詞條
詞條說(shuō)明
一。反滲透阻垢劑的主要成分是什么?反滲透阻垢劑主要包括一些**阻垢分散劑、、膦羧酸及膦磺酸和高分子聚合物等,而目前使用的絕大多數(shù)阻垢分散劑是高分子聚合物。它們能分散水中的難溶性無(wú)機(jī)鹽、阻止或干擾難溶無(wú)機(jī)鹽的沉積、結(jié)垢。二。反滲透阻垢劑和循環(huán)水阻垢劑之間的區(qū)別?由于兩種情況面臨的情況,對(duì)兩者的要求不同:循環(huán)水環(huán)境要求長(zhǎng)期操作,耐細(xì)菌,可以使用大量的聚合物阻垢分散劑提供懸浮固體的分散,增加循環(huán)水系
?HEDP是一種**類阻垢緩蝕劑,能與鐵、銅、鋅等多種金屬離子形成穩(wěn)定的絡(luò)合物,能溶解金屬表面的氧化物。HEDP在250℃下仍能起到良好的緩蝕阻垢作用,在高pH值下仍很穩(wěn)定,不易水解,一般光熱條件下不易分解。耐酸堿性、耐氯氧化性能較其它**(鹽)好。HEDP可與水中金屬離子,尤其是鈣離子形成六圓環(huán)螯合物,因而HEDP具較好的阻垢效果并具明顯的溶限效應(yīng),當(dāng)和其它水處理劑復(fù)合使用時(shí),
ATMP:氨基三亞,是一種新型的**磷系列水處理阻垢劑,主要以銨鹽、甲醛、三氯化膦按一定比例一步反應(yīng)制得的水溶液。固體ATMP阻垢劑主要由液體溶液進(jìn)行再結(jié)晶、分離、烘干而得到的固體產(chǎn)品。? ?ATMP阻垢劑的生產(chǎn)周期一般為24小時(shí),其中由三氯化膦水解制取進(jìn)一步與銨鹽和甲醛反應(yīng)生成產(chǎn)品,但由于三氯化磷為危險(xiǎn)化學(xué)品,現(xiàn)再工藝進(jìn)行改進(jìn),一般由成品直接進(jìn)行反應(yīng),這種
ATMP常與其它**、聚羧酸或鹽等復(fù)配成**堿性水處理劑,用于各種不同水質(zhì)條件下的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)。用量以1~20mg/L為佳;作緩蝕劑使用時(shí),用量為20~60mg/L。ATMP一般為酸制品。但用于堿洗等目的時(shí),可用中和成五鹽后制成配方備用。由于本的二鹽和三鹽在水中的溶解度較低(常溫下為30%左右,而五鹽為50%左右),為了配制穩(wěn)定的配方,用溶液中和本品液體產(chǎn)品(50
公司名: 廣州市德力化工有限公司
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