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SCC的化學源頭是氯離子。氯離子與裂紋尖端的物質發(fā)生化學作用,由于裂紋尖端的拉伸應力是最大的,因而使裂紋更容易向四處蔓延。SSC的化學源頭是H2S氣體。SSC的本質是含H2S的酸性環(huán)境。當一種易受影響材料的表面與酸性氣體接觸時,H2S分子發(fā)生化學反應,形成金屬硫化物和氫原子。氫原子在拉伸應力最高的裂紋端擴散到材料。晶格、晶格表面以及晶界上氫氣的擴散和堆積降低了材料可塑性形變的能力,引起氫脆,使裂紋
南京化學品助劑ZDHC MRSL已更新至3.1版本的檢測是指對南京地區(qū)生產的化學品助劑進行ZDHC MRSL標準的檢測,以評估其是否符合最新的法規(guī)要求和安全標準。ZDHC MRSL是全球領先的化學品制造商協(xié)會制定的有害物質限制(MRSL)標準,旨在減少或消除化學品制造和使用過程中對人體和環(huán)境的不良影響。該標準不斷更新和改進,以適應不斷變化的法規(guī)要求和市場需求。南京化學品助劑的ZDHC MRSL檢測
6.呼阻力:將口罩戴在標準頭型上(以下簡稱頭型),頭型后部接補償式微壓計和孔口流量計。在流量為30升/分的條件下,抽氣所形成的負壓值為氣阻力,氣所形成的正壓值為呼氣阻力。 7.標準型防護口罩阻塵率:以濾膜計重法測定。其方法是將口罩戴在頭型上,頭型內接粉塵采樣器A,與頭型同一水平面接平行采樣器B共同置于發(fā)塵柜內。柜中試驗粉塵為滑石粉。要求柜中粉塵分散度小于5微米的占90%以上,其中小于2微米的占7
GB 19083-2010醫(yī)用防護口罩技術要求檢測要求 GB19083-2010醫(yī)用防護口罩技術要求,英文名:Technical requirements for protective face mask for medical use,本標準規(guī)定了醫(yī)用口罩的技術要求、試驗方法、標志與使用說明及包裝、運輸和貯存。 GB19083-2010醫(yī)用防護口罩技術要求標規(guī)工作環(huán)境下,過濾空氣中的顆粒物,阻
公司名: 廣分檢測技術(蘇州)有限公司
聯系人: 周志琴
電 話: 18662248593
手 機: 18662248593
微 信: 18662248593
地 址: 江蘇蘇州吳中區(qū)孫武路76號萬耀產業(yè)園303室
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