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氧化鈰在拋光上的前景 信息和光電子領(lǐng)域的高速發(fā)展促進了化學(xué)機械拋光 (CMP)技術(shù)的不斷較新。除了設(shè)備和材料外 , 高精度表面的獲取較有賴于高效研磨粒子的設(shè)計與工業(yè)化生產(chǎn),以及相應(yīng)的拋光漿料的調(diào)配。而且隨著表面加工精度和效率要求的不斷提高,對高效拋光材料的要求也越來越高。二氧化鈰在微電子器件和精密光學(xué)元器件表面精密加工中已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用。 氧化鈰拋光粉(VK-Ce01)拋光粉因具有切削能力強,拋光
氧化鋯在耐火材料中的應(yīng)用 在科技高速發(fā)展的形勢下,制取耐高溫,康復(fù)師,高性能,效益的新型材料,首先解決制取過程中所需要的耐火材料。耐火材料的特點如下: 1.力學(xué)性質(zhì) 特種耐火材料的彈性模量都大。大多數(shù)具有較高的機械強度,但與金屬材料相比,由于脆性,抗沖擊強度甚低。絕大多數(shù)的特種耐火材料具有較高的硬度,因此耐磨,耐氣流或塵粒沖刷性比較好。大多數(shù)特種耐火材料的高溫蠕變都比較小,大的是二硅化鉬。蠕變值的
納米二氧化鈦在污水處理中的應(yīng)用 納米二氧化鈦作為一種重要的光催化材料,由于具有化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、高活高等優(yōu)點 1972年,日本學(xué)者Fujishima和Honda在《Nature》上報道了在n型半導(dǎo)體TiO2單晶電極上光致分解H2O產(chǎn)生H2和O2的現(xiàn)象,這一報道使得半導(dǎo)體光催化氧化還原技術(shù),在污水處理等方面的應(yīng)用受到廣泛關(guān)注,并得到了迅速發(fā)展。大量研究證實,染料、表面活性劑、**鹵化物、農(nóng)藥、油類、氰化
ZrO2負載Cu催化劑對CO低溫催化氧化研究 用溶膠一凝膠一**臨界干燥法制備了納米二氧化鋯(VK-R30)。采用沉淀法制備納米二氧化鋯負載銅催化劑。研究了催化劑的焙燒溫度和負載比例對CO轉(zhuǎn)化效率的影響,其焙燒溫度為650℃,Zr與Cu的物質(zhì)的量比是10:8。獲得催化劑在溫度為68℃具有催化活性,176℃時CO的轉(zhuǎn)化率達到50%,較好地實現(xiàn)了Zr02負載cu在較低溫度下對CO的催化。 CO氧化反應(yīng)是
公司名: 杭州萬景新材料有限公司
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