IPA清洗工藝
- 時間：2019-06-28作者：南通華林科納半導體設(shè)備有限公司瀏覽：112
南通華林科納半導體設(shè)備有限公司專注于全自動硅片超聲波清洗機,硅片清洗腐蝕機,晶圓片清洗腐蝕設(shè)備等
詞條
詞條說明
目前在半導體工業(yè)生產(chǎn)中，普遍采用RCA清洗技術(shù)清洗拋光硅片，今天我們介紹一種溶浸式濕法化學清洗，串聯(lián)的SC1和兆聲去除顆粒，含O3的去離子水工藝形成均勻硅氧化膜，最后用IPA干燥。 IPA干燥是利用IPA的低表面張力和易揮發(fā)的特性，取代硅片表面的具有較高表面張力的水分，然后用熱N2吹干，達到徹底干燥硅片水膜的目的。 此種干燥工藝比傳統(tǒng)的離心式甩干法、真空干燥法、單純熱N2干燥法在降低金屬和顆粒站
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