紫外光uv光解除臭設(shè)備 紫外光光催化氧化設(shè)備

時間：2020-04-03作者：江蘇祿景環(huán)保設(shè)備有限公司瀏覽：96

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  詞條說明

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• 影響U影響UV光解除臭設(shè)備治理VOCs效率的主要因素

  影響UV光解除臭設(shè)備治理VOCs效率的主要因素如下： UV波長，起始溫度，初始濃度，相對濕度，停留時間，反應(yīng)介質(zhì)。 初始濃度的影響 1、隨著甲ben濃度增高，降解效率降低。這是由于真空紫外燈**的185 nm的紫外線能量強度有限，單位時間內(nèi)光解效率下降。 2、單純的增加燈管的數(shù)量是無法解決高濃度**氣體問題，紫外光解技術(shù)不適合中高濃度VOCs氣體。 相對濕度的影響 1、相對濕度低的條件下，氧氣吸收

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  低溫等離子工作原理： 低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)*四態(tài)，當(dāng)外加電壓達到氣體的 放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在較短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到

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