新品發(fā)布-ELIONIX納米壓痕儀

時間：2023-07-05

作者：北京歐屹科技有限公司

詞條
詞條說明
新品發(fā)布-ELIONIX納米壓痕儀
可以獲得薄膜、極性表面和微小區(qū)域的硬度和彈性模量等機械性能。?由于分析載荷和位移曲線以確定特性，因此*觀察壓痕。符合ISO 14577-1/JIS Z 2255標準外部及內部溫度控制防震機構壓頭校正、溫度校正日常檢測提醒數據再現性 ?該機制可抑制振動和溫度變化等外部干擾的影響，提高數據的再現性 ?即使在連續(xù)測量中也能實現穩(wěn)定的高負荷單元和低負載單元的更換方便 ?通過更換設備進行設備校準
PHL應力雙折射儀PA-300-MT
PA-300-MT 簡介： PA系列是日本Photonic lattice公司傾力打造的雙折射/應力測量儀，PA系列測量雙折射測量范圍達0-130nm，可以測量的樣品范圍從幾個毫米到近500毫米。PA系列雙折射測量儀以其**技術的光子晶體偏光陣列片，*有的雙折射算法設計制造，得到每片樣品僅需幾秒鐘的測量能力，使其成為業(yè)內，特別是工業(yè)界雙折射測量/應力測量的**選擇。 PA-300-MT主要特點：
PHL應力雙折射測量儀WPA-200-MT
WPA-200-XL簡介： WPA-200-XL系列是Photonic lattic公司以其良好世界的光子晶體制造技術開發(fā)的產品，*特的測量技術，高速而又精確的測量能力使其成為**的光學測量產品。該產品在測量過程中可以對視野范圍內樣品一次測量，全面掌握應力分布?？蓽y數千nm高相位差分布的萬用機器，較適合用來測量光學薄膜或透明樹脂,量化測量結果，二維圖表可以較直觀的讀取數據。 WPA-200
新品發(fā)布-VR鏡頭專用應力雙折射測量設備
PHL公司較新推出一款**于VR鏡片的的評估設備WPA-VR ，適應于研發(fā)和在線式檢測。1，斯托克斯參數S3的面分布測量。Pancake鏡片薄型化的技術，在于鏡頭內含有控制整體偏光的偏光片與QWP(1/4玻片)結構。藉由表示綜合偏光控制性能的斯托克斯參數S3的整面分布信息可以評估模材貼合時的皺褶、氣泡等缺陷狀況2， RGB三原色測量，利用三原色量測，可了解各色狀態(tài)下QWP的相位差及S;差異狀況三