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深入分析 電子器件在線通過式水基清洗工藝要點(diǎn),合明科技
深入分析 電子器件在線通過式水基清洗工藝要點(diǎn),合明科技在當(dāng)今電子器件、組件的工藝制程中,為獲得高品質(zhì)高可靠性的產(chǎn)品,清洗,特別是水基清洗在制程中得到越來越廣泛的應(yīng)用。特別是在5G通訊,航天航空,汽車電子,****,醫(yī)療設(shè)備,人工智能等等行業(yè)和產(chǎn)業(yè)產(chǎn)品中,高可靠性的要求是為了保證整個(gè)功能體系能安全可靠運(yùn)行的基礎(chǔ)。水基清洗在這類器件、組件的制程中具有**的代表性,特別在大型規(guī)?;a(chǎn)中,可有效**較為
水基清洗劑的概念與背景(一) 概念:水基清洗劑是一種清洗媒介,是以去離子水作為主溶劑,與表面活性劑、助溶劑、添加劑等組合而成,借助于含有的表面活性劑、乳化劑、滲透劑等的潤濕、乳化、滲透、分散、增溶等作用來實(shí)現(xiàn)對(duì)污染物的清洗。根據(jù)IPC-CH-65B CN《印制板及組件清洗指南》中的定位,水基清洗劑中去離子水不少于50%,水基清洗劑是以純水或者**或者無機(jī)皂化劑對(duì)組件進(jìn)行**道清洗,然后以純水沖洗掉
半導(dǎo)體清洗劑簡介半導(dǎo)體水基清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導(dǎo)體分立器件和中、小規(guī)模集成電路中能夠完全代替?zhèn)鹘y(tǒng)半導(dǎo)體清洗工藝中使用的清洗液。1、產(chǎn)品用途半導(dǎo)體水基清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導(dǎo)體分立器件和中、小規(guī)模集成電路中能夠完全代替?zhèn)鹘y(tǒng)半導(dǎo)體清洗工藝中使用的清洗
水基清洗劑使用的注意事項(xiàng)一、影響水基清洗劑在清洗過程中的損耗因素有哪些?在水洗過程中,清洗階段流失了清洗劑,水通過霧氣疏散到通風(fēng)排氣口,水蒸汽進(jìn)入到通風(fēng)排氣口,并且拖拽清洗液進(jìn)入化學(xué)分離階段,稱之為:排氣和帶離造成額損耗。為了維持低成本較低化的過程,這三種類型損失需要被降到較低。蒸發(fā)、排氣損失是受排氣、溫度、流體流動(dòng)、流體壓力和蒸汽壓力影響:1. 高吸氣增加了清洗劑損失至耗盡的水平。為了解決這類問
公司名: 深圳市合明科技有限公司
聯(lián)系人: 李強(qiáng)亮
電 話: 0755-26415802
手 機(jī): 13691709838
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地 址: 廣東深圳南山區(qū)深圳市南山區(qū)粵海街道科技園瓊宇路2號(hào)特發(fā)信息科技大廈五樓
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