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詞條說明
SiC該材料是三代半導(dǎo)體材質(zhì),具有高臨界擊穿電場、高導(dǎo)熱性、高載流子飽和漂移速度等特點。它是**半導(dǎo)體功率器件的*方向,在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導(dǎo)體器件低損耗的優(yōu)良性能,是**半導(dǎo)體功率器件的*。? ? ? ??但經(jīng)傳統(tǒng)濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質(zhì)和表面容易被氧化等缺點,使得在SiC上不容易形成優(yōu)良的歐姆接觸和低界面態(tài)的MOS結(jié)
生物領(lǐng)域等離子處理機的應(yīng)用原理分析,即物質(zhì)的*四態(tài),是由部分喪失電子的原子和電離產(chǎn)生的自由電子組成的離子氣體物質(zhì)。這種電離氣體由原子、分子、原子團、離子和電子組成。其作用可以實現(xiàn)物體表面的清潔、活化、蝕刻、精整和等離子處理機表面涂層。由于低溫等離體對物體表面的處理強度小于高溫等離子體,可以保護物體表面。我們在應(yīng)用中使用的大多是低溫等離子體。而且各種粒子在物體處理過程中所表現(xiàn)出的作用也各不相同。&n
自2020年起,在全國開展"一盔一帶"安全守護行動,到現(xiàn)在為止,適當和標準地在電瓶車上戴頭盔已成為提高城市公交安全防范意識的一個重要方面。雖然近幾年來頭盔生產(chǎn)加工的科技含量不高,但也呈現(xiàn)出智能化系統(tǒng)、高抗撕裂、高韌性、輕質(zhì)、爆表等發(fā)展趨勢。等離子表面處理機的表面處理技術(shù)在頭盔生產(chǎn)制造中有什么作用?下面小編就和大家互相探討一下。? ? ? ?制作頭盔的過程包括
?plasma等離子體能量密度對H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響
?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時,H2添加量對C2H6脫氫反應(yīng)的影響:隨著H2濃度增加,C2H6轉(zhuǎn)化率,C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加,這表明H2的加入有利于C2H6轉(zhuǎn)化及C2H2、C2H4和CH4生成。產(chǎn)生上述結(jié)果的可能原因是:一方面氫氣因其導(dǎo)熱性好,可大量傳遞熱量,在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV,
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯(lián)系人: 熊生
電 話:
手 機: 13714491283
微 信: 13714491283
地 址: 廣東深圳寶安區(qū)華宏工業(yè)園A棟
郵 編:
網(wǎng) 址: ziqiplasma.b2b168.com
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