茂名鎳釩合金靶

時間：2024-10-27

作者：東莞市鼎偉新材料有限公司

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詞條說明
鋁鉻合金靶材
鋁鉻合金靶材：現(xiàn)代鍍膜技術的核心材料鋁鉻合金靶材是物理氣相沉積（PVD）工藝中的關鍵材料，廣泛應用于工具涂層、裝飾鍍膜和半導體制造等領域。其優(yōu)異的耐磨性、抗氧化性和穩(wěn)定的化學性能，使其成為高性能薄膜沉積的首選材料之一。鋁鉻合金靶材的特性鋁鉻合金靶材主要由鋁和鉻兩種金屬組成，通常鉻含量在10%至50%之間，不同的配比會影響最終薄膜的性能。高鉻含量的靶材能提供更強的耐腐蝕性和硬度，適用于刀具、
廣州貴金屬靶材批發(fā)
隨著科技的迅猛發(fā)展，貴金屬靶材作為一種重要的材料，在各個領域中發(fā)揮著的作用。作為廣州一家的貴金屬靶材批發(fā)商，我們秉持著、質量、服務的宗旨，致力于為客戶提供的貴金屬靶材產(chǎn)品和解決方案。貴金屬靶材是指以貴金屬及其合金為原料制備而成的濺射靶材，在電子器件、醫(yī)療設備、航空航天、新能源等領域有著廣泛的應用。例如，金、銀、鉑、銠等貴金屬靶材在集成電路和大規(guī)模集成電路的制造中發(fā)揮著重要作用。這些靶材通常具有以上
單晶硅靶材
單晶硅靶材：半導體制造的核心材料單晶硅靶材在半導體工業(yè)中扮演著至關重要的角色，它是制造集成電路、太陽能電池等高科技產(chǎn)品的關鍵原材料。這種材料以其極高的純度和完美的晶體結構著稱，能夠滿足現(xiàn)代電子器件對材料性能的嚴苛要求。高純度是單晶硅靶材的首要特征。通過提拉法或區(qū)熔法等工藝制備的單晶硅，純度可達99.9999%以上，幾乎不含任何雜質。這種超高純度確保了半導體器件具有優(yōu)異的電學性能和穩(wěn)定性。在制備過
合金靶材濺射原理
對濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。?濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。以pld為例，因素主要