三氧化二釔靶材

時(shí)間：2025-05-28作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：230

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• 詞條

  詞條說明

• 氧化鋯靶材

  氧化鋯靶材：高性能材料的核心秘密 氧化鋯靶材是薄膜沉積技術(shù)中的關(guān)鍵材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜、太陽能電池等領(lǐng)域。它的高熔點(diǎn)、優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性以及良好的機(jī)械強(qiáng)度，使其成為高端鍍膜工藝的首選。 高熔點(diǎn)與穩(wěn)定性 氧化鋯的熔點(diǎn)高達(dá)2700℃，遠(yuǎn)高于普通金屬氧化物，這使得它在高溫環(huán)境下仍能保持穩(wěn)定。在濺射鍍膜過程中，靶材需要承受高能粒子的轟擊，而氧化鋯的耐高溫特性確保了鍍膜過程的穩(wěn)定性和均勻性。此外，

• 茂名金靶材

  茂名金靶材：**高端材料科技的先鋒 茂名金靶材公司是一家專注于高端金屬材料生產(chǎn)的科技型企業(yè)，致力于研發(fā)和生產(chǎn)蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材。經(jīng)過多年的發(fā)展，公司已經(jīng)發(fā)展成為國內(nèi)的金靶材供應(yīng)商之一，憑借著強(qiáng)大的研發(fā)團(tuán)隊(duì)和先進(jìn)的生產(chǎn)工藝，為國內(nèi)外客戶提供了優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)。 金靶材，作為一種高端金屬材料，具有著廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域和優(yōu)越的性能特點(diǎn)。在光學(xué)涂層方面，金靶材的優(yōu)良光學(xué)特性使其成為反射鏡、濾光片和增透膜

• 硫化鉬靶材

  硫化鉬靶材：薄膜制備領(lǐng)域的新星硫化鉬靶材正成為薄膜制備領(lǐng)域備受關(guān)注的新材料。這種由鉬和硫元素組成的化合物靶材，因其獨(dú)特的層狀結(jié)構(gòu)和優(yōu)異的性能，在多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)出廣闊應(yīng)用前景。硫化鉬靶材最顯著的特點(diǎn)是它的層狀結(jié)構(gòu)。這種類似于石墨烯的二維結(jié)構(gòu)，使其在摩擦學(xué)性能方面表現(xiàn)突出。用其制備的薄膜具有極低的摩擦系數(shù)，這一特性使其成為機(jī)械零部件表面處理的理想選擇。在真空鍍膜過程中，硫化鉬靶材通過磁控濺射等技術(shù)

• ITO靶材簡介

  ? ? ? 氧化銦錫(英文全稱為Indium?Tin?Oxide，簡稱“ITO”)，由氧化銦和氧化錫粉末按照一定比例混合后，經(jīng)過一系列的生產(chǎn)工藝加工成型，再高溫?zé)Y(jié)形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體材料。? ? ? 氧化銦錫作為一種n型半導(dǎo)體材料，具有高的導(dǎo)電率、優(yōu)異的可見光透過率、較強(qiáng)的機(jī)械硬度和良好的化學(xué)穩(wěn)定性，主要用于制作液