plasma等離子清洗處理機(jī)在機(jī)械設(shè)備制造應(yīng)用

時(shí)間：2020-01-05作者：煙臺(tái)金鷹科技有限公司瀏覽：286

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)工藝原理及使用

  等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)工藝原理及使用 1) 等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)反應(yīng)機(jī)理： ? ?在干法等離子去膠技術(shù)中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機(jī)反響室中受高頻及微波能量效果，電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體，其間具有強(qiáng)氧化才能的游離態(tài)氧原子 （約占 10-20%）在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響： O2→O*+ O*， CxHy + O

• 等離子清洗機(jī)用于半導(dǎo)體晶圓清洗工藝

  等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中的應(yīng)用：等離子體清洗機(jī)具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、沒(méi)有廢料處理和環(huán)境污染等問(wèn)題。等離子清洗機(jī)常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強(qiáng)電場(chǎng)作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)被抽走。等離子清洗機(jī)在去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無(wú)劃傷、有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量等優(yōu)點(diǎn),而且等離子清洗機(jī)不用酸、堿及有機(jī)溶劑等等離子清洗

• 等離子清洗機(jī)處理電路板PCB

  等離子清洗機(jī)用于多層硬板，軟性電路板，軟硬結(jié)合板去臟污，膠渣，激光鉆孔后孔內(nèi)碳化物處理，聚四氟乙烯印制板孔金屬化前的孔壁活化，涂覆前的板面活化處理。等離子清洗機(jī)用于印制電路板表面涂覆前板面處理，解決表面涂覆漏鍍等問(wèn)題，干膜貼覆及表面涂層前處理可改善于干膜及涂層附著不良等問(wèn)題，確保產(chǎn)品質(zhì)量等離子清洗機(jī)處理印刷電路板PCB去孔內(nèi)膠渣，孔內(nèi)膠渣必須在鍍金之前去除。此膠渣也是以碳?xì)浠衔餅橹?，很容易與等離

• 水處理設(shè)備之預(yù)處理系統(tǒng)介紹

  水處理設(shè)備中的預(yù)處理系統(tǒng)主要用來(lái)過(guò)濾原水中的微生物、細(xì)菌、膠體、有機(jī)物、金屬離子等雜質(zhì)。通過(guò)預(yù)處理部分的過(guò)濾，可以改善進(jìn)水水質(zhì)，保證了反滲透進(jìn)水的生物穩(wěn)定性，減少對(duì)RO膜的污染，同時(shí)預(yù)處理系統(tǒng)可進(jìn)行反沖洗再生還有利于延長(zhǎng)RO膜的使用壽命，使反滲透系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定的工作水處理設(shè)備預(yù)處理系統(tǒng)詳細(xì)說(shuō)明1、石英砂過(guò)濾器 石英砂過(guò)濾器主要去除水中的懸浮物、膠體、泥沙、粘土、腐植物、顆粒物等雜質(zhì)，降低水的濁度，達(dá)