磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：160

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 真空封口機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)及主要問(wèn)題解答

  怎么判斷哪些東西可以封？1，高溫不熔化。2、高溫下不與石英管產(chǎn)生反應(yīng)。3、液體沒(méi)辦法抽真空，液體里又氧氣。對(duì)封管機(jī) 場(chǎng)地的要求？氫氧水焊機(jī)需要通風(fēng)。石英管封口要預(yù)留多長(zhǎng)？要留50mm-70mm（石英管內(nèi)如果是熔點(diǎn)低物品，少70），夾頭伸進(jìn)去要30mm。封管機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：1、 每個(gè)設(shè)備出廠有經(jīng)過(guò)氦質(zhì)譜撿漏測(cè)試確保氣密性?2、 設(shè)備磁流體密封件接觸氣體部分采用陶瓷軸承 高成本帶來(lái)的是耐腐蝕（普

• 磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介

  磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用，產(chǎn)生漂移，因而導(dǎo)致傳濺射效率低，電

• 6英寸高低溫?zé)崤_(tái)產(chǎn)品用途介紹

  本產(chǎn)品為6英寸高低溫?zé)崤_(tái)，能夠在高溫400度和低溫-120度的環(huán)境中工作。它是一種用于實(shí)驗(yàn)室、研究及工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中進(jìn)行溫度控制的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于各類材料的熱處理、熱性能測(cè)試、化學(xué)反應(yīng)、生物樣品處理等方面。本產(chǎn)品具有溫度范圍廣、控溫精度高、操作簡(jiǎn)便及使用等特點(diǎn)，是實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)領(lǐng)域非常理想的高低溫?zé)崤_(tái)設(shè)備。產(chǎn)品用途：1.?材料熱處理：廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、塑料、粉末、納米材料等領(lǐng)域的熱處理、

• 小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn)

  1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能，剛開(kāi)始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長(zhǎng)時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些金屬較快能達(dá)到1-2納米每秒，5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。6、可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測(cè)，監(jiān)測(cè)薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要