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反滲透設(shè)備常見故障及維修方法

  • 詞條

    詞條說明

  • 納濾膜結(jié)構(gòu)及工作原理

    納濾膜,孔徑通常在1納米(nm)以上,一般介于1\~2nm之間,其截留分子量介于反滲透膜和濾膜之間,約為100\~2000道爾頓(Da)。這種孔徑大小使得納濾膜能夠允許溶劑分子或某些低分子量溶質(zhì)及離子透過,而截留高分子量物質(zhì)、多價(jià)離子及部分單價(jià)離子。納濾膜大多是復(fù)合膜,由兩部分結(jié)構(gòu)組成:一部分為起支撐作用的多孔膜,其機(jī)理為篩分作用;另一部分為起分離作用的一層較薄的致密膜,其分離機(jī)理則為復(fù)雜。復(fù)合膜

  • 切削液廢水處理設(shè)備工作原理

    切削液廢水處理設(shè)備是機(jī)械加工、金屬制造等行業(yè)中的環(huán)保設(shè)備,其功能是通過物理、化學(xué)或生物方法去除廢水中的油污、金屬顆粒、化學(xué)添加劑等污染物,實(shí)現(xiàn)水資源的循環(huán)利用或達(dá)標(biāo)排放。切削液廢水主要來源于機(jī)床加工過程中的冷卻液、潤滑液及清洗廢水,成分復(fù)雜,包含礦物油、乳化油、表面活性劑、重金屬離子(如鉻、鎳、鋅)以及細(xì)菌代謝產(chǎn)物。其特點(diǎn)為:1.?高COD(化學(xué)需氧量):乳化油和添加劑導(dǎo)致物濃度高,傳統(tǒng)

  • 電子清洗廢水處理設(shè)備原理

    電子清洗廢水處理設(shè)備是現(xiàn)代工業(yè)中的環(huán)保技術(shù)裝備,其原理是通過物理、化學(xué)或生物方法去除廢水中的污染物,使其達(dá)到排放或回用標(biāo)準(zhǔn)。電子清洗廢水主要來源于半導(dǎo)體、液晶面板、光伏等高科技產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)過程,含有重金屬、溶劑、酸堿物質(zhì)等復(fù)雜成分,若未經(jīng)處理直接排放,將對(duì)環(huán)境和人體健康造成嚴(yán)重危害。電子清洗廢水具有成分復(fù)雜、濃度波動(dòng)大、毒性高等特點(diǎn)。例如,半導(dǎo)體制造中使用的、等化學(xué)品會(huì)形成高濃度含氟廢水;光刻膠剝離

  • 反滲透純水處理設(shè)備-權(quán)坤

    反滲透純水處理設(shè)備-權(quán)坤反滲透是一種借助于選擇透過(半透過)性膜的工力能以壓力為推動(dòng)力的膜分離技術(shù),當(dāng)系統(tǒng)中所加的壓力大于進(jìn)水溶液滲透壓時(shí),水分子不斷地透過膜,經(jīng)過產(chǎn)水流道流入中心管,然后在一端流出水中的雜質(zhì),如離子、有機(jī)物、細(xì)菌、病毒等,被截留在膜的進(jìn)水側(cè),然后在濃水出水端流出,從而達(dá)到分離凈化目的。工藝流程:1、原水→原水增壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→一級(jí)反滲透設(shè)備2

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