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時(shí)間：2018-10-26作者：廈門(mén)仲鑫達(dá)科技有限公司瀏覽：17

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 8C-POZL51 模塊

  ?（3）矩陣輸入 下圖所示為4*4矩陣輸入電路，它使用PLC的四個(gè)輸入點(diǎn)X0~X3來(lái)實(shí)現(xiàn)16個(gè)輸入點(diǎn)的功能，特別適合plc輸出點(diǎn)多而輸入點(diǎn)不夠的場(chǎng)合。當(dāng)Y0導(dǎo)通時(shí)，X0~X3接受的是Q1~Q4送來(lái)的輸入信號(hào)；當(dāng)Y1導(dǎo)通時(shí)，X0~X3接受的是Q5~Q8送來(lái)的輸入信號(hào)；當(dāng)Y2導(dǎo)通時(shí)，X0~X3接受的是Q9~Q12送來(lái)的輸入信號(hào)；當(dāng)Y3導(dǎo)通時(shí)，X0~X3接受的是Q13~Q16送來(lái)的輸入信號(hào)。將

• IS200TRMBH1

  ?在電鍍金屬做成的真空系統(tǒng)，就像是鋅和鋁薄膜那樣是非常普遍的電容行業(yè)。它的主要目標(biāo)是盡可能在保持薄膜張力的同時(shí)增加薄膜傳輸速度。薄膜的張力和速度應(yīng)以一個(gè)參考**被保存起來(lái)，主要問(wèn)題就是薄膜速度和張力之間的耦合。而它們之間的速度有很多的擾亂源（輥非圓，膜滑動(dòng)。如果傳遞速度波動(dòng)，將會(huì)導(dǎo)致模的處理不均勻；另一方面，不適當(dāng)?shù)膹埩赡軐?dǎo)致皺紋或者薄膜破裂，而一旦薄膜破裂，操作工人就需要再次打開(kāi)繞組

• MVI56-MNET 模塊

  ?灰控制邏輯圖[/align] 3.2.2 粉塵計(jì)量裝置排灰 粉塵計(jì)量裝置內(nèi)粉塵定量（ 粉塵重達(dá)3t，信號(hào)來(lái)自稱重裝置）排放，當(dāng)粉塵計(jì)量裝置內(nèi)粉塵達(dá)到上料位時(shí)必須排放。 12個(gè)粉塵計(jì)量裝置共分4組，每3個(gè)粉塵計(jì)量裝置為一組，供一臺(tái)螺旋輸送機(jī)排灰，4組可同時(shí)排灰，但每組內(nèi)的3個(gè)粉塵計(jì)量裝置每次只能有一個(gè)排灰。 控制邏輯圖如圖2所示。 [align=center]?圖2 排灰控制邏

• 2711P-T7C4D8

  ?除了其它諸如*系統(tǒng)建立不完善，設(shè)備數(shù)學(xué)模型及神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)體系仍需優(yōu)化外，在過(guò)程信息與控制方面，狀態(tài)檢修在實(shí)踐運(yùn)用中還遇到如下兩個(gè)問(wèn)題: （1） 狀態(tài)檢修在實(shí)際應(yīng)用中需要大量的采集點(diǎn) 對(duì)設(shè)備進(jìn)行狀態(tài)預(yù)測(cè)需要大量實(shí)時(shí)I/O點(diǎn)的支持,目前電廠中I/O點(diǎn)的采集往往只適于對(duì)設(shè)備運(yùn)行基本狀態(tài)的遠(yuǎn)程監(jiān)測(cè)，遠(yuǎn)遠(yuǎn)無(wú)法滿足狀態(tài)檢修的要求。只有采集數(shù)量足夠的I/O點(diǎn)，結(jié)合其他設(shè)備狀態(tài)監(jiān)測(cè)手段，通過(guò)SIS系統(tǒng)中