真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備

時間：2022-04-09作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：405

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  詞條說明

• 多弧離子真空鍍膜技術(shù)特點

  離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者**結(jié)合起來， 不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點是薄膜 附著力 強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點是我們可以通過產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體，其中離子之間

• 電鍍和真空鍍的區(qū)別

  ????電鍍和真空鍍的區(qū)別有哪些？接下來讓我們一起來了解一下，更方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍：是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積

• 真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜，實際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積，包括了光學(xué)設(shè)計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例，開發(fā)了多種光學(xué)膜層材料。這些材料包括有透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟

• PVD涂層對工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層，工件需經(jīng)研磨或拋光，并針對運輸進(jìn)行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺，以便它們不會在**次使用時斷裂。 五、在EDM（