何時對零件執(zhí)行真空浸漬

時間：2022-06-25作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：251

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• 詞條

  詞條說明

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)有哪些？

  在真空鍍膜技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見的一種鍍膜技術(shù)。今天，廣東真空鍍膜設(shè)備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷?。?2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實(shí)現(xiàn)濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復(fù)性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備

  真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、**的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝潢裝飾，燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女士鞋后跟等領(lǐng)域。磁控濺射鍍膜設(shè)備及技術(shù)可以再金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷）的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼、鎳、鉬、硅、鈦鋁及金屬反應(yīng)物（氧化物、氮化物、炭化物）、

• 真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn)有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn) 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜，實(shí)際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積，包括了光學(xué)設(shè)計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例，開發(fā)了多種光學(xué)膜層材料。這些材料包括有透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟

• 卷繞真空鍍膜機(jī)的簡介與應(yīng)用

  ? ? ??卷繞式真空鍍膜設(shè)備,包括設(shè)置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設(shè)置有與驅(qū)動電機(jī)輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動的送料輥輪對,送料輥輪對與鍍膜輥之間設(shè)置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對與張力釋放輥之間保持松弛狀態(tài)的輥輪；收卷裝置包括一主動的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設(shè)置有送料輥輪對,該送料輥輪對與收卷輥之