影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

時間：2022-07-20作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：118

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• 真空鍍膜設(shè)備價格

  關(guān)于真空鍍膜設(shè)備價格問題，一直都是大家較關(guān)心的。今天，廣東振華科技小編就和大家解答一下，真空鍍膜設(shè)備大概多少錢一臺。 真空鍍膜設(shè)備價格，也要看工藝，一般來說，蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備機在15-40萬，多弧離子鍍膜設(shè)備在30-120萬，磁控濺射鍍膜設(shè)備在60-100萬、工具鍍膜設(shè)備在70-100萬。 看了上面的價格，很多小伙伴開始有疑問，為什么真空鍍膜設(shè)備價格區(qū)間這么大。其實這也是配置決定的。有的品牌真空

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備

  ? ? ? ? 該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整，膜層均勻性優(yōu)越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強，致密性高的優(yōu)點，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿足了

• 電鍍和真空鍍的區(qū)別

  ????電鍍和真空鍍的區(qū)別有哪些？接下來讓我們一起來了解一下，較方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍：是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進行金屬沉積

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見的一種鍍膜技術(shù)。今天，廣東真空鍍膜設(shè)備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷?。?2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現(xiàn)濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復(fù)性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制