鵬城半導體亮相*八屆***三代半導體論壇

時間：2023-02-01

作者：鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司

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等離子體化學氣相沉積設(shè)備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設(shè)備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內(nèi)應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了
鵬城半導體邀您參加*四屆**半導體產(chǎn)業(yè)（重慶）博覽會
鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司，由哈爾濱工業(yè)大學（深圳）、北京琨騰科技有限公司以及有多年實踐經(jīng)驗的工程師團隊共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)*與市場*的交叉點，尋求創(chuàng)新**與可持續(xù)發(fā)展，解決產(chǎn)業(yè)的痛點和國產(chǎn)化難題，爭取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。公司**業(yè)務是半導體材料、工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)制造。公司人才團隊知識結(jié)構(gòu)完整，有以哈工大教授和博士為**的高水平材料研究和工藝研究團隊；還有來自工業(yè)界的**裝
*十七屆全國MOCVD學術(shù)會議與您太原相見！
2022年8月15日-18日，2022十七屆全國MOCVD學術(shù)會議選擇在中國·太原·湖濱國*際大酒店舉行。金屬**化學氣相淀積（MOCVD）技術(shù)自二十世紀六十年代提出以來，取*得了飛速進步，已經(jīng)廣泛應用于制備III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半導體材料及其**結(jié)構(gòu)，較*大地推動了光電子器件和微電子器件與芯片的發(fā)展及產(chǎn)業(yè)化，也成為半導體**晶格、**阱、**線、**點結(jié)構(gòu)材料及相
PVD技術(shù)在半導體器件中的應用
在快速發(fā)展的半導體技術(shù)領(lǐng)域，物相沉積（PVD）是實現(xiàn)薄膜沉積工藝精度和效率的關(guān)鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術(shù)在半導體行業(yè)中的應用。物相沉積涉及在半導體襯底上沉積薄膜，利用諸如濺射或蒸發(fā)等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導體制造中的寶貴工具，可以創(chuàng)建復雜和的設(shè)備。PVD在微電子學中的應用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關(guān)鍵作用，TFT是平板顯示器、發(fā)光二管(OLED)