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殘余氣體分析儀應用于高溫真空爐, 實現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化
殘余氣體分析儀應用于高溫真空爐, 實現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā) X 射線管及組件, 使用德國 Pfeiffer?Hicube RGA 殘余氣體分析儀與高溫真空爐連接, 測試產(chǎn)品在不同溫度下?lián)]發(fā)的產(chǎn)物變化, 進一步分析產(chǎn)品的耐用性以及使用形態(tài). 實現(xiàn)真空過程相關的質(zhì)量控制, 滿足 X 射線管工藝要求.殘余氣體分析儀質(zhì)量保證和過程優(yōu)化諸如提供氣體成分定量測定, 確定過程氣體純
因產(chǎn)品配置不同,價格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵
英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量
英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量 上海伯東代理的英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量應用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進行硅片表面形貌測量和表面粗糙度測量, 便于后續(xù)進行拉曼增強. 測試方法: 選用上海伯東英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進行測試. 將樣品放置在樣品臺, 通過系統(tǒng)軟件自動控制. 原子力顯微鏡測試條件
上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應性
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com
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