英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量

時間：2019-05-31

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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上海伯東 Pfeiffer 普發(fā)分子泵維修保養(yǎng)服務
上海伯東是德國普發(fā) Pfeiffer 授權銷售維修中心, 自 2002年以來, 已累計為過 100, 000+ 家企業(yè)提供維修保養(yǎng)服務, 客戶遍布工業(yè), 科研, 鍍膜和半導體行業(yè), 維修中心使用 100 ％ Pfeiffer 原廠部件和原裝進口檢測設備對維修產(chǎn)品做全方面的性能測試, 上海伯東擁有完全的拆解, 維修能力, 提供快速, 高質(zhì)量的維修保養(yǎng)服務.?伯東公司在上海,?臺
HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵
美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用
上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3
KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜
硅薄膜作為薄膜太陽能電池的材料越來越引起人們的重視, 非晶硅薄膜太陽能電池由于存在轉換效率低和由 S-W 效應引起的效率衰退等問題, 而微晶硅薄膜具有較高電導率、較高載流子遷移的電學性質(zhì)及優(yōu)良的光學穩(wěn)定性, 可以克服非晶硅薄膜的不足, 已成為光伏領域的研究熱點.?采用磁控濺射沉積硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒氣體及相應的尾氣處理裝置, 有利于降低設備成本, 且工藝參數(shù)控制, 因此經(jīng)過