KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：42

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  氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺(tái), 實(shí)現(xiàn)多工位同時(shí)抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個(gè)組件, 均需要進(jìn)行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?

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  英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量 上海伯東代理的英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量應(yīng)用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進(jìn)行硅片表面形貌測量和表面粗糙度測量, 便于后續(xù)進(jìn)行拉曼增強(qiáng). 測試方法: 選用上海伯東英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進(jìn)行測試. 將樣品放置在樣品臺(tái), 通過系統(tǒng)軟件自動(dòng)控制. 原子力顯微鏡測試條件