KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：94

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam鍍膜機(jī)

  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):&nb

• HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):?-?閥門主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋

• 上海伯東普發(fā) Pfeiffer 售后維修服務(wù)

  上海伯東普發(fā) Pfeiffer?售后維修服務(wù)"?無(wú)論您想調(diào)試新的真空系統(tǒng), 故障排除, 維護(hù)保養(yǎng)還是維修, 上海伯東都能為您提供全面的支持并在較短的時(shí)間內(nèi)做出響應(yīng)! "伯東企業(yè)（上海）有限公司是德國(guó)普發(fā)真空 Pfeiffer Vacuum? 授權(quán)代理商, 隸屬于伯東株式會(huì)社, 外國(guó)法人資, 集團(tuán)年?duì)I業(yè)額過(guò) 10 億美金. 上海伯東自 1995年成立以來(lái), 

• KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性（1 σ）達(dá)到< 1%. 可以用來(lái)刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機(jī)的部件,