HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

時(shí)間：2024-01-11作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：100

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• 上海伯東KRI離子源在半導(dǎo)體材料中的預(yù)清洗及刻蝕應(yīng)用

  半導(dǎo)體材料（semiconductor material）是一類具有半導(dǎo)體性能（導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體與絕緣體之間，電阻率約在1mΩ·cm～1GΩ·cm范圍內(nèi)）、可用來制作半導(dǎo)體器件和集成電路的電子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導(dǎo)纖維、電子工業(yè)的重要部件、光學(xué)儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學(xué)研究的重要材料。?本文主要介紹上海伯東KRI離子源在半導(dǎo)體材料SiO2中的預(yù)清洗及刻

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

  ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學(xué)元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準(zhǔn)確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點(diǎn), 是激光設(shè)備應(yīng)用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在

• KRI 離子源用于UVC人機(jī)共存紫外濾光片鍍膜

  ? ?? ?紫外濾光片是一種光學(xué)元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學(xué)薄膜控制入射光通過膜層后不同波長光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個(gè)波段, 因?yàn)槠渖矬w透過率低, 被譽(yù)為對人體的紫外線.222nm遠(yuǎn)紫外產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點(diǎn)問題, 兼顧了功能性和性, 實(shí)現(xiàn)了人機(jī)友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達(dá)99.9%的細(xì)

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

  上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性