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小型濺射儀儀問儀答較近小伙伴對于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多,今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題:1、膜厚檢測儀原理:膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測量技術(shù)加上**的數(shù)學(xué)算法,進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁
?? ? ? ? ? ? ?鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢1、樣品臺旋轉(zhuǎn),多樣品同時鍍膜時,鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能,剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質(zhì),擋板可以保護樣品,提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng),可以長時間濺射鍍膜,厚度可達1微米以上。4、直流磁控濺射,提高附著力,濺射速率快,比離子濺射快上一個量級。針對某些
質(zhì)量流量計為何要進行穩(wěn)壓補償常用的流量計大多只能夠直接測量流體的體積,并不能直接測量質(zhì)量,如果只測量流體在當前工況下的體積時,質(zhì)量流量計儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計顯示為流體質(zhì)量時,需要通過計算即時采樣的流體體積參數(shù)與密度參數(shù)相乘的積而得出(質(zhì)量=密度X體積)而并非直接測量出流體的質(zhì)量。質(zhì)量流量計作為流量儀表,它測量出來的數(shù)據(jù)一定要準確,如果要測量流體的質(zhì)量時就涉及到一個問題:就是流體
磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產(chǎn)生漂移,因而導(dǎo)致傳濺射效率低,電
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
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手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
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網(wǎng) 址: zzketan.b2b168.com
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