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重磅-鵬城半導體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權(quán)登記證書!
近日,經(jīng)*人民共和國國家**審核,根據(jù)《zhrnghg計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定,“鵬城半導體技術(shù)(深圳)有限公司-全資子公司鵬城微納技術(shù)(沈陽)有限公司”獲3項《zhrnghg國家**計算機軟件著作權(quán)登記證書》,分別是:《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起,該3
在快速發(fā)展的半導體技術(shù)領(lǐng)域,物相沉積(PVD)是實現(xiàn)薄膜沉積工藝精度和效率的關(guān)鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術(shù)在半導體行業(yè)中的應用。物相沉積涉及在半導體襯底上沉積薄膜,利用諸如濺射或蒸發(fā)等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導體制造中的寶貴工具,可以創(chuàng)建復雜和的設(shè)備。PVD在微電子學中的應用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關(guān)鍵作用,TFT是平板顯示器、發(fā)光二管(OLED)
2022年8月15日-18日,2022十七屆全國MOCVD學術(shù)會議選擇在中國·太原·湖濱國*際大酒店舉行。金屬**化學氣相淀積(MOCVD)技術(shù)自二十世紀六十年代提出以來,取*得了飛速進步,已經(jīng)廣泛應用于制備III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半導體材料及其**結(jié)構(gòu),較*大地推動了光電子器件和微電子器件與芯片的發(fā)展及產(chǎn)業(yè)化,也成為半導體**晶格、**阱、**線、**點結(jié)構(gòu)材料及相
新一代半導體技術(shù)-真空鍍膜技術(shù)的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢
摘要:隨著可持續(xù)發(fā)展觀的深入普及和社會經(jīng)濟的快速發(fā)展,經(jīng)濟與環(huán)保協(xié)同發(fā)展成為當下企業(yè)發(fā)展和科技創(chuàng)新的主要趨勢。傳統(tǒng)的通電鍍膜技術(shù)會產(chǎn)生較大的污染,且鍍膜質(zhì)量不高,經(jīng)濟效益低下,已逐漸退出歷史舞臺,取而代之的是技術(shù)較加**、鍍膜質(zhì)量較加優(yōu)秀的真空鍍膜技術(shù)。真空鍍膜技術(shù)始于20世紀30年代,當前真空鍍膜技術(shù)已從實驗室走向了工廠,實現(xiàn)了大規(guī)模生產(chǎn),在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業(yè)領(lǐng)域得到了廣泛的應用
公司名: 鵬城半導體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
電 話:
手 機: 13632750017
微 信: 13632750017
地 址: 廣東深圳南山區(qū)留仙大道3370號南山智園崇文園區(qū)3號樓304
郵 編:
網(wǎng) 址: pcs2021.b2b168.com
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