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鵬城半導(dǎo)體玻璃基板TGV技術(shù)助力封裝


    鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司專(zhuān)注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 鵬城半導(dǎo)體亮相*八屆***三代半導(dǎo)體論壇

    一年一度行業(yè)盛會(huì),*八屆***三代半導(dǎo)體論壇(IFWS )&*十九屆中國(guó)**半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA)于2023年2月7日-10日(7日?qǐng)?bào)到)在蘇州金雞湖凱賓斯基大酒店召開(kāi)。在這場(chǎng)被視為“***三代半導(dǎo)體行業(yè)*”的盛會(huì)上,由2014年諾貝爾物理獎(jiǎng)獲得者、日本工程院院士、美國(guó)工程院院士、中國(guó)工程院外籍院士、日本名古屋大學(xué)未來(lái)材料與系統(tǒng)研究所教授天野浩,美國(guó)工程院院士、美國(guó)國(guó)家發(fā)明

  • 鵬城半導(dǎo)體|HFCVD熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備 高性?xún)r(jià)比 生產(chǎn)廠家 臺(tái)風(fēng)快訊

    金剛石是一種典型的多功能限材料,在電學(xué)、光學(xué)、熱學(xué)、力學(xué)聲學(xué)和電化學(xué)方面具有優(yōu)異性能,在眾多GAO*XIN*技術(shù)領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。20世紀(jì)80年代之后,化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)制備金剛石涂層促進(jìn)了其廣泛的應(yīng)用,引發(fā)了席卷的“金剛石熱”。90年代后,隨著金剛石涂層工業(yè)化制備技術(shù)的出現(xiàn),金剛石涂層產(chǎn)業(yè)開(kāi)萌生。金剛石涂層工具、金剛石熱沉、金剛石光學(xué)窗口、金剛石膜基探測(cè)器及傳感器和金剛石電等一系列

  • PVD技術(shù)在半導(dǎo)體器件中的應(yīng)用

    在快速發(fā)展的半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,物相沉積(PVD)是實(shí)現(xiàn)薄膜沉積工藝精度和效率的關(guān)鍵工具。讓我們一起來(lái)了解PVD技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用。物相沉積涉及在半導(dǎo)體襯底上沉積薄膜,利用諸如濺射或蒸發(fā)等物理過(guò)程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導(dǎo)體制造中的寶貴工具,可以創(chuàng)建復(fù)雜和的設(shè)備。PVD在微電子學(xué)中的應(yīng)用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關(guān)鍵作用,TFT是平板顯示器、發(fā)光二管(OLED)

  • 真空鍍膜行業(yè)發(fā)展趨勢(shì),低耗能無(wú)污染**技術(shù)

    1、真空鍍膜行業(yè)技術(shù)水平及特點(diǎn)多功能磁控濺射儀(高真空磁控濺射鍍膜機(jī))-鵬城半導(dǎo)體真空鍍膜是表面處理技術(shù)的一項(xiàng)分支,是指為了減少雜質(zhì)的干擾,在高度真空環(huán)境下,通過(guò)物理或化學(xué)手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉(zhuǎn)換成氣態(tài)或等離子態(tài),并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質(zhì)(簡(jiǎn)稱(chēng)基材、基板或基片)表面形成薄膜的過(guò)程。利用真空鍍膜技術(shù)鍍制薄膜后,可使材料表面獲得新的復(fù)合性能并實(shí)現(xiàn)新型的工程

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