鵬城半導體玻璃基板TGV技術助力封裝

時間：2025-02-18

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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PVD真空鍍膜設備行業(yè)分析
一、PVD真空鍍膜設備市場概況高真空電子束蒸鍍機-鵬城半導體2024年，**PVD真空鍍膜設備行業(yè)的總規(guī)模約為22億美元，而且預計到2024年，這一數(shù)字將會翻倍，達到47億美元。PVD真空鍍膜技術由非金屬物質(zhì)以真空溫度和帶電離子碰撞技術，形成厚膜，具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優(yōu)點。PVD真空鍍膜設備可廣泛應用于電子、醫(yī)療、汽車、航空航天、航空航空電子等領域，以及金屬表面處理、無損
重磅-鵬城半導體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權登記證書！
近日，經(jīng)*人民共和國國家**審核，根據(jù)《zhrnghg計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規(guī)定，“鵬城半導體技術（深圳）有限公司-全資子公司鵬城微納技術（沈陽）有限公司”獲3項《zhrnghg國家**計算機軟件著作權登記證書》，分別是：《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起，該3
為您提供高性價比真空鍍膜設備解決方案《520愛情風暴來襲》
真空鍍膜設備的薄膜制作過程，簡單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉(zhuǎn)移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個重要環(huán)節(jié)。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發(fā)源“源"的作用是提供鍍膜的材料（或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質(zhì)。熱絲CVD金剛石設備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進行的，在氣態(tài)物質(zhì)遷
鵬城半導體攜TGV/TSV/TMV技術亮相慕尼黑上海光博會
?慕尼黑上海光博會，堪稱亞洲激光、光學、光電行業(yè)的年度盛會。自 2006 年**在上海舉辦以來，其規(guī)模與影響力與日俱增，已然成為**光電行業(yè)的重要交流平臺。慕尼黑上海光博會將于2025年3月20-22日在上海新**博覽中心（上海市浦東新區(qū)龍陽路2345號）舉辦，屆時鵬城半導體將攜*薄膜沉積設備及技術解決方案在E4館4631亮相?；诩{米與原子制造的PVD/CVD技術，用于高質(zhì)量的薄膜