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詞條說明
掩膜版(Photo ** sk)又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版,是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業(yè)批量生產(chǎn),是下 ** 工業(yè)生產(chǎn)過程連接的關(guān)鍵部分是決定下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的因素之一。掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)相機的底片。其工作原理如下:根據(jù)客戶需要的圖形,掩膜制造商通過光刻制工藝在掩膜基板上刻制微米級和納米級的精
墊圈與密封圈有什么區(qū)別?1、墊圈指墊在被連接件與螺母之間的零件;密封圈,是由一個或幾個零件組成的環(huán)形罩,固定在軸承的一個套圈或墊圈上并與另一套圈或墊圈接觸或形成窄的迷宮間隙一般為扁平形的金屬環(huán)。2、墊圈用來保護被連接件的表面不受螺母擦傷,分散螺母對被連接件的壓力。密封圈防止?jié)櫥吐┏黾巴馕锴秩?。墊圈分為:平墊圈-C級、大墊圈-A和C級、特大墊圈-C級、小墊圈-A級、平墊圈-A級、平墊圈-倒角型-A
光掩膜(mask)資料:在半導(dǎo)體制造的整個流程中,其中一部分就是從版圖到wafer制造中間的一個過程,即光掩膜或稱光罩(mask)制造。這一部分是流程銜接的關(guān)鍵部分,是流程中造價較高的一部分,也是限制較小線寬的瓶頸之一。光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外,還廣泛的應(yīng)用與像LCD,PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分,基板和不透光材料?;逋?/p>
雙縫就是指一條總寬可調(diào)、狹小長細的縫孔。一側(cè)可調(diào)的非對稱加密稱式雙縫和多邊可調(diào)的對稱性雙縫。在金屬片上做雙縫切割生產(chǎn)加工的加工工藝有很多,如線切割,蝕刻加工切割,激光切割;但線切割和蝕刻切割非常*受原材料薄厚的限定,切割出去的實際效果并并不是那麼理想化。而激光切割與其他傳統(tǒng)生產(chǎn)加工方式對比,激光切割具備較高的適應(yīng)能力。由于其他方式不可以象激光束那般功效于一個很小的地區(qū),結(jié)果造成創(chuàng)口寬、熱危害區(qū)金
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系人: 孟經(jīng)理
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