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碳化鈦靶材


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  • 廣州鑭靶材

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  • 中山三氧化鋁靶材廠家

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  • 磁控濺射鈷鐵硼合金靶材

    磁控濺射靶材:薄膜制備的"心臟"在真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,磁控濺射靶材扮演著至關(guān)重要的角色。這種特殊材料通過高能粒子轟擊釋放出原子,在基底表面沉積形成均勻薄膜。鈷鐵硼合金靶材因其獨特的磁性能,成為制備磁性薄膜的首選材料。磁控濺射過程中,靶材的純度直接影響薄膜質(zhì)量。高純度靶材能減少雜質(zhì)摻入,確保薄膜性能穩(wěn)定。密度同樣是關(guān)鍵指標,高密度靶材可以降低濺射過程中的顆粒飛濺,提高鍍膜均勻性。現(xiàn)代制備工藝通過熱等

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