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質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償


    鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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  • 高低溫探針臺(tái)-解釋塞貝克系數(shù)測(cè)量原理及系數(shù)

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  • 磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介

    磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用,產(chǎn)生漂移,因而導(dǎo)致傳濺射效率低,電

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