質量流量計為何要進行穩(wěn)壓補償

時間：2023-10-07

作者：鄭州科探儀器設備有限公司

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濕度和氣體濃度實驗設備產品優(yōu)勢
這個帶有濕度控制的氣體濃度發(fā)生器具有一系列強大的功能和性能參數，特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準確控制和檢測的應用。以下是一些關鍵的性能參數和特性：- AI智能控制算法：采用先進的AI智能控制算法，能夠在大范圍的氣體濃度比例下準確穩(wěn)定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍：該設備的濃度稀釋范圍為1-5000倍，適應各種應用環(huán)境。- 高精度流量檢測：流量檢測精度可達到±1% F.S，流量線性
質量流量計為何要進行穩(wěn)壓補償
質量流量計為何要進行穩(wěn)壓補償常用的流量計大多只能夠直接測量流體的體積，并不能直接測量質量，如果只測量流體在當前工況下的體積時，質量流量計儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計顯示為流體質量時，需要通過計算即時采樣的流體體積參數與密度參數相乘的積而得出(質量=密度X體積)而并非直接測量出流體的質量。質量流量計作為流量儀表，它測量出來的數據一定要準確，如果要測量流體的質量時就涉及到一個問題：就是流體
磁控濺射技術原理及應用簡介
磁控濺射技術原理及應用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。傳統(tǒng)的濺射技術的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會受到電場和磁場的作用，產生漂移，因而導致傳濺射效率低，電
濕度和氣體濃度實驗設備產品優(yōu)勢
這個帶有濕度控制的氣體濃度發(fā)生器具有一系列強大的功能和性能參數，特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準確控制和檢測的應用。以下是一些關鍵的性能參數和特性：- AI智能控制算法：采用的AI智能控制算法，能夠在大范圍的氣體濃度比例下準確穩(wěn)定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍：該設備的濃度稀釋范圍為1-5000倍，適應各種應用環(huán)境。- 流量檢測：流量檢測精度可達到±1% F.S，流量線性為±0.2