PVD真空鍍膜技術(shù)知識(shí)問答

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：151

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說明

• 多功能 可擴(kuò)展 顯微鏡熱臺(tái) 拉曼光學(xué)測(cè)試臺(tái)

  擁有一臺(tái) 你在材料測(cè)試方面微型真空探針臺(tái)? ? ? ?多功能 可擴(kuò)展 顯微鏡熱臺(tái) 微型探針臺(tái)?? ? ? ?氣敏濕敏探針臺(tái)? 拉曼光學(xué)測(cè)試臺(tái)? 熱電探針臺(tái)??? ? ? ? 光電探針臺(tái) 非磁性霍爾效應(yīng)探針臺(tái)??

• 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)

  ?針對(duì)光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設(shè)計(jì)了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計(jì)中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時(shí)避免了靶裝置在預(yù)先清洗時(shí)的污染;設(shè)計(jì)了靶裝置的驅(qū)動(dòng)端,完成了電機(jī)

• 高溫真空探針熱臺(tái)的使用場(chǎng)景

  1000度高溫真空探針臺(tái)，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、材料科學(xué)、納米技術(shù)、光電子、薄膜技術(shù)等領(lǐng)域，具有以下用途：1. 半導(dǎo)體器件測(cè)試與表征：用于不同溫度下的半導(dǎo)體料件、電子器件和光電子器件的性能測(cè)試和分析。2. 材料性能表征：研究和測(cè)試材料在不同溫度下的電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)等性能，以及材料的穩(wěn)定性和可靠性。3. 納米結(jié)構(gòu)與納米器件研究：在納米尺度上測(cè)量納米結(jié)構(gòu)與納米器件的電學(xué)性能，及其在高溫真空環(huán)境中的穩(wěn)定性和

• 6英寸高低溫?zé)崤_(tái)產(chǎn)品用途介紹

  本產(chǎn)品為6英寸高低溫?zé)崤_(tái)，能夠在高溫400度和低溫-120度的環(huán)境中工作。它是一種用于實(shí)驗(yàn)室、研究及工業(yè)生產(chǎn)過程中進(jìn)行溫度控制的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于各類材料的熱處理、熱性能測(cè)試、化學(xué)反應(yīng)、生物樣品處理等方面。本產(chǎn)品具有溫度范圍廣、控溫精度高、操作簡(jiǎn)便及使用等特點(diǎn)，是實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)領(lǐng)域非常理想的高低溫?zé)崤_(tái)設(shè)備。產(chǎn)品用途：1.?材料熱處理：廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、塑料、粉末、納米材料等領(lǐng)域的熱處理、