基于真空探針臺的紅外焦平面自動測試的關(guān)鍵技術(shù)研究

時間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：112

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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  詞條說明

• 小型濺射儀問題解答

  小型濺射儀儀問儀答較近小伙伴對于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：1、膜厚檢測儀原理：膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術(shù)加上先進的數(shù)學(xué)算法，進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁

• 小型金屬濺射鍍膜機優(yōu)點

  1、樣品臺旋轉(zhuǎn)，多樣品同時鍍膜時，鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質(zhì)，擋板可以保護樣品，提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長時間濺射鍍膜，厚度可達1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個量級。針對某些金屬較快能達到1-2納米每秒，5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。6、可擴展膜厚監(jiān)測，監(jiān)測薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要

• 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計

  ?針對光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設(shè)計了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預(yù)先清洗時的污染;設(shè)計了靶裝置的驅(qū)動端,完成了電機

• 探針臺精準(zhǔn)控制關(guān)鍵技術(shù)研究

  集成電路自動化裝備-探針臺是晶圓測試領(lǐng)域研究的熱點。由于晶圓片上晶粒很小,達到微米級,所以要求探針臺要保持很高的定位精度和運動精度才能保證探針與晶粒的準(zhǔn)確對針和測試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺高精密控制,從而達到微米級定位要求。? ? ? ?本文來自于國家02專項-面向12”晶圓片的全自動探針臺關(guān)鍵技術(shù)研究。首先,本文介紹了探針臺兩大部分-LO