等離子清洗機提高粘結力，吸水能力

時間：2022-03-29作者：煙臺金鷹科技有限公司瀏覽：408

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  詞條說明

• 晶圓光刻膠等離子清洗機及設備

  在半導體器件生產過程中，晶圓芯片表面會存在各種微粒、金屬離子、有機物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質，為了避免污染物對芯處理性能造成致致命影響和缺陷，在保證不破壞芯處理及其他輔助材料表面特性、電特性的前提下，半導體晶圓在制造過程中，需要經過多次的表面清洗步驟，而晶圓光刻膠plasma等離子清洗機是晶圓級和3D封裝應用的理想的干式清洗設備。晶圓光刻蝕膠等離子清洗機的應用：等離子應用包括預處理、灰化/光刻膠

• 等離子清洗機改善材料表面的親水性

  等離子清洗機通過對材料表面進行改性，可以改善表面親水性，去除表面有機物，從而對多種材料進行適配、涂膜、鍍層等操作。等離子體表面處理用于改變各種材料的表面性質，使其容易粘合，膠合和涂漆。通過等離子體處理部件，等離子清洗機能夠清潔和激活表面，改善其粘附特性。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統(tǒng)等。

• 等離子處理機提升表面潔凈度，改善粘接強度

  等離子清洗機在光電子領域的應用：等離子刻蝕，等離子沉積，原子層沉積廣泛用于光電器件制造，包括VCSEL，激光二管，微透鏡，波導和單片微波集成電路（MMIC）等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和

• 等離子清洗機提高材料表面親水性

  等離子清洗機能使材料表面親水性提高，潤濕性能改善，等離子清洗機是一種干式清洗設備，主要是依靠等離子中活性離子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。等離子清洗機親水原理簡單來講就是等離子體中的活性粒子與材料表面反應生成親水基團從而使材料表面具有親水性。等離子清洗機有幾種稱謂，英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機，等離子表面處理機,電漿