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美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用
上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù), 安裝于各類真空設(shè)備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機, lo
HVA真空閥門用于太陽能電池生產(chǎn)?太陽能電池又稱為 ”太陽能芯片” 或 ”光電池”, 是一種利用太陽光直接發(fā)電的光電半導(dǎo)體薄片. 它只要被滿足一定照度條件的光照到, 瞬間就可輸出電壓及在有回路的情況下產(chǎn)生電流. 在物理學(xué)上稱為太陽能光伏(Photovoltaic, 縮寫為PV), 簡稱光伏.太陽能電池是通過光電效應(yīng)或者光化學(xué)效應(yīng)直接把光能轉(zhuǎn)化成電能的裝置. 以光伏效應(yīng)工作的晶硅太陽能電池
?帶通濾光片也叫干涉濾光片,?主要起到過濾不想要的雜光,?只讓想要的光通過的作用. 385nm?紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款?UV?紫外波段的濾光片,?廣泛應(yīng)用于熒光檢測,?多波段濾光片.?它具有高透過率,?其深截止可保探測器接收不到其它波長的光,?因此可保證圖像的高亮度和大的信噪比.
上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com
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