上海伯東提供適用于薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)的離子源和真空系統(tǒng)

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：45

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

  ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類(lèi)玻璃材質(zhì)表面通過(guò)特殊的鍍膜工藝而形成的光學(xué)元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長(zhǎng), 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長(zhǎng)定位準(zhǔn)確、透過(guò)高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點(diǎn), 是激光設(shè)備應(yīng)用中常見(jiàn)的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在

• 上海伯東提供適用于薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)的離子源和真空系統(tǒng)

  ? ? ?在沒(méi)有真空的情況下，可再生能源的發(fā)展是不可能的。以光伏發(fā)電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉(zhuǎn)化方式，通過(guò)太陽(yáng)能電池將太陽(yáng)輻射能轉(zhuǎn)化為電子流，進(jìn)而生成電能。? ? ? ?太陽(yáng)能電池技術(shù)有許多種類(lèi)，其中一種主要的技術(shù)是基于薄膜沉積。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)在于，它在制造太陽(yáng)能電池時(shí)消耗的材料較

• HVA 真空閥門(mén)應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機(jī)

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門(mén)?11000, HVA?真空閥門(mén)安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.E-Beam?鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進(jìn)樣室 

• 美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù), 安裝于各類(lèi)真空設(shè)備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機(jī), lo