*四屆**半導體產(chǎn)業(yè)（重慶）博覽會圓滿落幕

時間：2022-07-06

作者：鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司

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創(chuàng)芯未來鵬城半導體亮相*四屆**半導體產(chǎn)業(yè)博覽會（重慶）
6月帶著憧憬與期待，在重慶這片沃土上與我們相遇，未來，初心依舊。*四屆**半導體產(chǎn)業(yè)（重慶）博覽會（簡稱“GSIE 2022”），將于2022年6月29日-7月1日在重慶國際博覽中心舉辦。鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司（簡稱“鵬城半導體”）本次攜多功能磁控濺射儀解決方案、分子束外延薄膜生長設備（MBE）解決方案、熱絲CVD金剛石解決方案等多個解決方案亮相本次展會。一起來先讀為快吧。多功能磁控濺射儀
熱絲CVD金剛石解決方案
【前言】金剛石是自然界已發(fā)現(xiàn)的具有較高的硬度、強度、耐磨性材料，金剛石具有的熱導率、透過波段、聲速以及半導體特性和化學惰性等綜合性能使其成為當今世界上較優(yōu)秀的*材料。上世紀80年代初期通過化學低壓氣相沉積生成金剛石薄膜(CVD)技術(shù)取得突破性進展，經(jīng)過多年的研究發(fā)展，CVD金剛石生長技術(shù)已日漸成熟。目前已有四種形態(tài)的CVD金剛石產(chǎn)品進入市場，它們是：1)純多晶金剛石厚片 2)涂層金剛石；3)大
叮~鵬城半導體向您發(fā)來一封會議邀請函
2023年*二屆*三代半導體材料技術(shù)與市場研討會由半導體在線主辦，本屆會議于2023年3月30-31日在中國-蘇州合景萬怡酒店召開。*二屆*三代半導體材料技術(shù)與市場研討會提供協(xié)同創(chuàng)新的高質(zhì)量交流平臺，推動國內(nèi)三代半導體材料的學術(shù)研究、技術(shù)進步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展，展示業(yè)內(nèi)精英企業(yè)，凝聚行業(yè)發(fā)展共識。在此次會議，鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）將帶來納米技術(shù)及高端制造設備跟大家見面，其中包括
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）?？捎糜诳茖W研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結(jié)構(gòu)及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規(guī)則形狀的散片、φ2～4