詞條
詞條說(shuō)明
2022年1月17日, 國(guó)華三新與鵬城半導(dǎo)體在深圳舉行簽約儀式, 國(guó)華投資吳葉菲總經(jīng)理等一行出席本次簽約儀式;鵬城半導(dǎo)體代表吳向方先生等一行出席本次簽約儀式。關(guān)于我們鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司,由哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳)、北京琨騰科技有限公司以及有多年實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的工程師團(tuán)隊(duì)共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)*與市場(chǎng)*的交叉點(diǎn),尋求創(chuàng)新**與可持續(xù)發(fā)展,解決產(chǎn)業(yè)的痛點(diǎn)和國(guó)產(chǎn)化難題,爭(zhēng)取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控
化學(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD)-小型管式LPCVD設(shè)備
LPECVD是在低壓高溫的條件下,通過化學(xué)反應(yīng)氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)??捎糜诳茖W(xué)研究、實(shí)踐教學(xué)、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點(diǎn)1、小型化,方便實(shí)驗(yàn)室操作和使用,大幅降低實(shí)驗(yàn)成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸;每次裝片1~3片。基片放置方式:配置三種基片托架,豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型:不規(guī)則形狀的散片、φ2~4
在xian jin封裝領(lǐng)域中,無(wú)論是2.5D封裝中的interposer 還是3D封裝中都要用到TSV,但是zui近很多人都聽說(shuō)玻璃通孔(Through Glass Via,TGV)這個(gè)詞。玻璃通孔(TGV)潛能ju da,未來(lái)可能將是xian jin封裝技術(shù)中的常客。本文將簡(jiǎn)要描述玻璃通孔(TGV)在xian jin封裝的應(yīng)用及發(fā)展趨勢(shì)以及工藝簡(jiǎn)介。玻璃基板是下一代芯片基板,he xin材料由玻
為您提供高性價(jià)比真空鍍膜設(shè)備解決方案《520愛情風(fēng)暴來(lái)襲》
真空鍍膜設(shè)備的薄膜制作過程,簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是將一種材料(薄膜材料)轉(zhuǎn)移到另一種材料(基底)的表面,形成和基底牢固結(jié)合的薄膜的過程。所以,任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個(gè)重要環(huán)節(jié)。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發(fā)源“源"的作用是提供鍍膜的材料(或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學(xué)的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質(zhì)。熱絲CVD金剛石設(shè)備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進(jìn)行的,在氣態(tài)物質(zhì)遷
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
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供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 小型 PC08 化學(xué)氣相沉積小型LPCVD設(shè)備

供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 PC07 化學(xué)氣相沉積LPCVD設(shè)備

供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空 PC06 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD

供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 金剛石散熱晶圓片 襯底

供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)

供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復(fù)合鍍膜機(jī)

生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)

供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
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