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恭喜鄭科探突破焦耳熱閃蒸新技術(shù)


    鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

  • 詞條

    詞條說明

  • 真空封口機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)及主要問題解答

    怎么判斷哪些東西可以封?1,高溫不熔化。2、高溫下不與石英管產(chǎn)生反應(yīng)。3、液體沒辦法抽真空,液體里又氧氣。對(duì)封管機(jī) 場(chǎng)地的要求?氫氧水焊機(jī)需要通風(fēng)。石英管封口要預(yù)留多長(zhǎng)?要留50mm-70mm(石英管內(nèi)如果是熔點(diǎn)低物品,少70),夾頭伸進(jìn)去要30mm。封管機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):1、 每個(gè)設(shè)備出廠有經(jīng)過氦質(zhì)譜撿漏測(cè)試確保氣密性?2、 設(shè)備磁流體密封件接觸氣體部分采用陶瓷軸承 高成本帶來的是耐腐蝕(普

  • 小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn)

    ?? ? ? ? ? ? ?鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢(shì)1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),多樣品同時(shí)鍍膜時(shí),鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能,剛開始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì),擋板可以保護(hù)樣品,提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng),可以長(zhǎng)時(shí)間濺射鍍膜,厚度可達(dá)1微米以上。4、直流磁控濺射,提高附著力,濺射速率快,比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些

  • 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    ?針對(duì)光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設(shè)計(jì)了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽(yáng)極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計(jì)中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時(shí)避免了靶裝置在預(yù)先清洗時(shí)的污染;設(shè)計(jì)了靶裝置的驅(qū)動(dòng)端,完成了電機(jī)

  • 濕度和氣體濃度實(shí)驗(yàn)設(shè)備產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

    這個(gè)帶有濕度控制的氣體濃度發(fā)生器具有一系列強(qiáng)大的功能和性能參數(shù),特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準(zhǔn)確控制和檢測(cè)的應(yīng)用。以下是一些關(guān)鍵的性能參數(shù)和特性:- AI智能控制算法:采用的AI智能控制算法,能夠在大范圍的氣體濃度比例下準(zhǔn)確穩(wěn)定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍:該設(shè)備的濃度稀釋范圍為1-5000倍,適應(yīng)各種應(yīng)用環(huán)境。- 流量檢測(cè):流量檢測(cè)精度可達(dá)到±1% F.S,流量線性為±0.2

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