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釕靶材的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)


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  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 釕靶材的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

    產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):1、耐化學(xué)腐蝕氧化鋯、氧化鋁陶瓷有很強(qiáng)的耐化學(xué)腐蝕的特性!2、耐摔性首家具備這個(gè)技術(shù), 陶瓷棒從高空跌落完好無(wú)損,耐摔!3、超耐磨氧化鋯、氧化鋁陶瓷結(jié)構(gòu)產(chǎn)品具有很強(qiáng)的耐磨性!4、耐高溫氧化鋯、氧化鋁陶瓷可耐高溫1600度以上!5、防靜電氧化鋯、氧化鋁陶瓷為防靜電材料, 適用無(wú)塵區(qū)域!6、防火性氧化鋯、氧化鋁陶瓷對(duì)燃燒的火焰有極強(qiáng)防護(hù)能力!

  • 常見(jiàn)的金屬靶材有哪些?濺射靶材是否希缺資源?

    我們都掌握靶材便是快速荷能顆粒負(fù)電子的總體目標(biāo)原材料。磁控濺射靶材關(guān)鍵運(yùn)用于電子器件及信息技術(shù)產(chǎn)業(yè),如電子器件、信息內(nèi)容儲(chǔ)存、液晶顯示器、激光器儲(chǔ)存器、電子器件操縱元器件等;也可以運(yùn)用于玻璃鍍膜行業(yè);還能夠運(yùn)用于金屬?gòu)?fù)合材料、高溫耐腐蝕、高端裝飾用品等領(lǐng)域。 靶材類型比較多,有金屬類、鋁合金類、金屬氧化物類這些,用的領(lǐng)域也各有不同,運(yùn)用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?磁控濺射靶材是不是希缺資源?

  • 鈀靶材的制作方法

    目前靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。鑄造法:將一定成分配比的合金原料熔煉,再將合金溶液澆注于模具中,形成鑄錠,最后經(jīng)機(jī)械加工制成靶材,鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等,其優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低,密度高,可大型化;缺點(diǎn)是對(duì)熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬,普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。粉末冶金法:將一定成分

  • 淺談半導(dǎo)體靶材

    靶材,特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)工藝,是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射,是制備薄膜材料的主要技術(shù),也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊,使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出,從而在晶圓表面沉積,濺鍍形成金屬薄膜,其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱

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