釕靶材廠家淺談常見的靶材

時(shí)間：2022-08-28作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：548

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• 詞條

  詞條說明

• 常見的金屬靶材有哪些?

  靶材便是快速荷能粒子負(fù)電子的總體目標(biāo)原材料。靶材類型比較多,有金屬類、合金類、金屬氧化物類這些,用的領(lǐng)域也各有不同,運(yùn)用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?普遍金屬靶材的類型如下所示基本金屬軋材鎂Mg、錳M、鐵Fe、鈷CO、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、鉛Pd、錫S、鋁AL小金屬靶材銦I、鍺Ge、鎵Ga、銻Sb、鉍Bi、鎘Cd硅化物金屬靶材鈦Ti、鍇Zr、鉿Hf、釩V鈮№b、鉭Ta、銘Cr、鉬M、鎢W、錸

• 鈀靶材的制作方法

  目前靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。鑄造法：將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金溶液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經(jīng)機(jī)械加工制成靶材，鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等，其優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低，密度高，可大型化;缺點(diǎn)是對(duì)熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。粉末冶金法：將一定成分

• 鈀靶材廠家?guī)懔私獍胁氖裁词前胁?？靶材是制備薄膜的主要材料之一，比如鍍膜靶材，通過磁控濺射，在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下，濺射在基體上形成各種所需功能薄膜的濺射源。當(dāng)然還有其它鍍膜工藝，比如真空離子鍍膜、蒸發(fā)鍍膜等等電鍍工藝。根據(jù)所需求工藝應(yīng)用的不同，對(duì)靶材的種類選擇也不同。所以說得簡(jiǎn)單一點(diǎn)，靶材就是真空電鍍材料爐里的靶，你也可以簡(jiǎn)單理解為電鍍材料的一種。靶材就材質(zhì)分類而言分為三大類：1. 金屬靶材 2.陶

• 什么是靶材？

  簡(jiǎn)易說的話，靶材便是快速荷能粒子負(fù)電子的總體目標(biāo)原材料。有金屬材料類、鋁合金類、金屬氧化物類這些。例如:蒸發(fā)射頻濺射鍍膜是加溫蒸發(fā)鍍膜...鋁模等。拆換不一樣的靶材(如鋁、銅、不銹鋼板、鈦、鎳靶等)，就可以獲得不一樣的膜系(如超硬、耐磨損、防腐蝕的鋁合金膜等)。?