直流負(fù)壓濺射和直流濺射有什么區(qū)別

時(shí)間：2024-01-30作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：73

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 直流負(fù)壓濺射和直流濺射有什么區(qū)別

  直流負(fù)壓濺射和直流濺射??在直流濺射中，帶正電的離子被吸引到接地的、帶負(fù)電的濺射靶上，從靶材上濺射出原子，然后這些原子在樣品（也稱為襯底）上沉積形成薄膜。通常情況下，濺射靶被接到正，而樣品端（襯底）被接到負(fù)或接地。??? ?然而，有些情況下（如反濺射或偏壓濺射），樣品端會(huì)被接到正以吸引多余的離子，從而實(shí)現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜

• 晶振片故障現(xiàn)象、原因及解決辦法

  探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變a.?不良晶片產(chǎn)生???解決方案：換晶片b.?晶片接近其使用壽命??解決方案：換晶片c.?晶片支承座表面有雜物???解決方案：用酒精或細(xì)砂皮清洗支承座d.?來(lái)自濺射源的頻率干涉???解決方案：&n

• 中頻和射頻等離子清洗機(jī)之間的主要區(qū)別是

  1. 工作頻率：40KHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為40千赫（40,000赫茲），而13.56MHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為13.56兆赫（13,560,000赫茲）。工作頻率不同會(huì)導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。2. 清洗效果：40KHz的低頻等離子清洗對(duì)于大多數(shù)材料都可以達(dá)到較好的清洗效果，但對(duì)于一些微米或亞微米級(jí)別的顆?；蛭廴疚锶コЧ赡懿患选６?3.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒

• 真空冷阱表面為什么會(huì)有水

  1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來(lái)說(shuō)，空氣主要由、氧氣和少量其他氣體組成。在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下（約為1個(gè)大氣壓，相當(dāng)于101.325千帕），液態(tài)氮的沸點(diǎn)約為-196攝氏度（-321華氏度），液態(tài)氧的沸點(diǎn)約為-183攝氏度（-297華氏度）。因此，空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個(gè)溫度之間。請(qǐng)注意，這些數(shù)值是在標(biāo)準(zhǔn)條件下給出的，實(shí)際情況可能會(huì)受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當(dāng)空氣的溫度降低到的