分子泵組應用于低溫真空探針臺

時間：2024-01-12

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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HVA 矩形閥 Load-lock 典型應用
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 矩形閥?Load-lock 典型應用上海伯東某生產原生多晶矽料生產設備, 矽片加工設備, 晶體矽電池生產設備企業(yè), 使用美國?HVA 矩形閥用于真空機臺的 Load-lock工位, HVA 矩形閥安裝在 2X18 英寸規(guī)格內的矽片生產線上, 起到輔助傳遞矽片, 隔離真空腔室的作用.矽片比較薄, 一般
氦質譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺密封性泄露檢測
氦質譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺, 實現(xiàn)多工位同時抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內的多個組件, 均需要進行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經過上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質譜檢漏儀 ASM 340D?
KRI 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜
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KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應用
上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應性