氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測(cè)

時(shí)間：2023-04-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：100

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  詞條說明

• HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):?-?閥門主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋

• HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam鍍膜機(jī)

  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):&nb

• 美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù), 安裝于各類真空設(shè)備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機(jī), lo

• 英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量

  英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量 上海伯東代理的英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量應(yīng)用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進(jìn)行硅片表面形貌測(cè)量和表面粗糙度測(cè)量, 便于后續(xù)進(jìn)行拉曼增強(qiáng). 測(cè)試方法: 選用上海伯東英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進(jìn)行測(cè)試. 將樣品放置在樣品臺(tái), 通過系統(tǒng)軟件自動(dòng)控制. 原子力顯微鏡測(cè)試條件