美國(guó) HVA 高真空閥門簡(jiǎn)介

時(shí)間：2023-05-18作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：110

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 上海伯東KRI離子源在半導(dǎo)體材料中的預(yù)清洗及刻蝕應(yīng)用

  半導(dǎo)體材料（semiconductor material）是一類具有半導(dǎo)體性能（導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體與絕緣體之間，電阻率約在1mΩ·cm～1GΩ·cm范圍內(nèi)）、可用來(lái)制作半導(dǎo)體器件和集成電路的電子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導(dǎo)纖維、電子工業(yè)的重要部件、光學(xué)儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學(xué)研究的重要材料。?本文主要介紹上海伯東KRI離子源在半導(dǎo)體材料SiO2中的預(yù)清洗及刻

• HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統(tǒng)

  激光是一種很奇妙的?”物質(zhì)”,?是人類繼原子能、計(jì)算機(jī)和半導(dǎo)體之后人類的又一偉大發(fā)現(xiàn).人們都知道,?激光亮度高,?可以達(dá)到太陽(yáng)亮度的10億倍甚.激光純凈無(wú)比,?單色性好;?激光具有無(wú)比的準(zhǔn)直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強(qiáng)大,?瞬間爆發(fā)的能量,?即使堅(jiān)硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

  國(guó)內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國(guó)?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??下圖是某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

  硅薄膜作為薄膜太陽(yáng)能電池的材料越來(lái)越引起人們的重視, 非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池由于存在轉(zhuǎn)換效率低和由 S-W 效應(yīng)引起的效率衰退等問(wèn)題, 而微晶硅薄膜具有較高電導(dǎo)率、較高載流子遷移的電學(xué)性質(zhì)及優(yōu)良的光學(xué)穩(wěn)定性, 可以克服非晶硅薄膜的不足, 已成為光伏領(lǐng)域的研究熱點(diǎn).?采用磁控濺射沉積硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒氣體及相應(yīng)的尾氣處理裝置, 有利于降低設(shè)備成本, 且工藝參數(shù)控制, 因此經(jīng)過(guò)