精密小孔加工

時(shí)間：2018-08-17作者：北京華諾恒宇光能科技有限公司瀏覽：112

北京華諾恒宇光能科技有限公司專注于硅片精密切割,**薄金屬精密切割,墊片閥片切割等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 激光蝕刻文字如何上顏色？

  一般規(guī)則的金屬表面有光澤并且具有高反射性。幾年前，研究團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)了一種黑色金屬技術(shù)，可以將發(fā)亮的金屬表面變黑，以提高吸收率。但是郭教授表示，“要制造出**的太陽(yáng)能吸收器，我們不僅需要黑色金屬，而且還需要一種選擇性吸收器。”該團(tuán)隊(duì)測(cè)試了鋁、銅、鋼和鎢等多種金屬，發(fā)現(xiàn)用納米級(jí)結(jié)構(gòu)蝕刻的鎢具有較高的太陽(yáng)吸收效率。金屬鎢通常用作太陽(yáng)能吸收器。研究人員發(fā)現(xiàn)，與未經(jīng)處理的鎢相比，蝕刻鎢后，其發(fā)電效率提高了130

• 硅片切割一般有什么難點(diǎn)

  硅片切割一般有什么難點(diǎn)1、雜質(zhì)線痕：由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起，在切片過(guò)程中無(wú)法完全去除，導(dǎo)致硅片上產(chǎn)生相關(guān)線痕。2、劃傷線痕：由砂漿中的SIC大顆?；蛏皾{結(jié)塊引起。切割過(guò)程中，SIC顆?！翱ā痹阡摼€與硅片之間，無(wú)法溢出，造成線痕。 表現(xiàn)形式：包括整條線痕和半截線痕，內(nèi)凹，線痕發(fā)亮，較其它線痕較加窄細(xì)。 3、密布線痕（密集型線痕）：由于砂漿的磨削能力不夠或者切片機(jī)砂漿回路系統(tǒng)問(wèn)題，造成硅片上出現(xiàn)密集線痕

• 【激光蝕刻】注意問(wèn)題

  減少側(cè)蝕和突沿，提高蝕刻系數(shù)側(cè)蝕產(chǎn)生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時(shí)間越長(zhǎng)，（或者使用老式的左右搖擺蝕刻機(jī)）側(cè)蝕越嚴(yán)重。側(cè)蝕嚴(yán)重影響印制導(dǎo)線的精度，嚴(yán)重側(cè)蝕將使制作精細(xì)導(dǎo)線成為不可能。當(dāng)側(cè)蝕和突沿降低時(shí)，蝕刻系數(shù)就升高，高的蝕刻系數(shù)表示有保持細(xì)導(dǎo)線的能力，使蝕刻后的導(dǎo)線接近原圖尺寸。電鍍蝕刻抗蝕劑無(wú)論是錫－鉛合金，錫，錫－鎳合金或鎳，突沿過(guò)度都會(huì)造成導(dǎo)線短路。因?yàn)橥谎厝菀讛嗔严聛?lái)，在導(dǎo)線的兩點(diǎn)之間形

• 硅片切割廠家

  北京華諾恒宇光能科技有限公司,成立于2002年，是專注于半導(dǎo)體、印制電路板、陶瓷電容、柔性線路板、LED微精密加工（納米級(jí)）、硅片切割的高科技公司，在精密切割、打孔、微孔加工領(lǐng)域占據(jù)一定的市場(chǎng)份額，系高精度制造加工系統(tǒng)的*。一、光纖激光劃片機(jī)激光器泵浦源采用進(jìn)口新型半導(dǎo)體材料，大大提高電光轉(zhuǎn)換效率。替代*二代真正做到免維護(hù)。光束質(zhì)量好。準(zhǔn)基模（低階模），發(fā)散角小。全封閉光路設(shè)計(jì)，光釬傳輸，確保