真空BNC連接器產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

時(shí)間：2023-11-11作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：120

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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  詞條說明

• 恭喜鄭科探突破焦耳熱閃蒸新技術(shù)

  焦耳熱閃蒸技術(shù)，用于將含碳的廢料轉(zhuǎn)化為石墨烯材料。原理是利用**高溫環(huán)境將高碳含量材料變?yōu)槭Ｏ葘⑦@些廢料被磨成粉末，然后用高壓加熱到2000℃（3680°F到4940°F）之間。為了獲得高質(zhì)量的渦輪狀閃蒸石墨烯，閃蒸時(shí)間應(yīng)保持在30～100 ms之間。這種技術(shù)是一種較便宜制造石墨烯的方法，需要的能量也少得多，并可以將生活中廢棄的塑料碎片回收利用。在這項(xiàng)新的研究中，萊斯大學(xué)的科學(xué)家們已經(jīng)通過焦耳閃

• 6英寸高低溫?zé)崤_(tái)產(chǎn)品用途介紹

  本產(chǎn)品為6英寸高低溫?zé)崤_(tái)，能夠在高溫400度和低溫-120度的環(huán)境中工作。它是一種用于實(shí)驗(yàn)室、研究及工業(yè)生產(chǎn)過程中進(jìn)行溫度控制的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于各類材料的熱處理、熱性能測(cè)試、化學(xué)反應(yīng)、生物樣品處理等方面。本產(chǎn)品具有溫度范圍廣、控溫精度高、操作簡(jiǎn)便及使用等特點(diǎn)，是實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)領(lǐng)域非常理想的高低溫?zé)崤_(tái)設(shè)備。產(chǎn)品用途：1.?材料熱處理：廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、塑料、粉末、納米材料等領(lǐng)域的熱處理、

• 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)

  ?針對(duì)光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設(shè)計(jì)了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽(yáng)極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計(jì)中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時(shí)避免了靶裝置在預(yù)先清洗時(shí)的污染;設(shè)計(jì)了靶裝置的驅(qū)動(dòng)端,完成了電機(jī)

• 小型濺射儀問題解答

  小型濺射儀儀問儀答近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁金屬