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芯片測(cè)試前期準(zhǔn)備


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  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 失效分析FA常用工具介紹

    失效分析FA常用工具介紹;透射電鏡(TEM);TEM一般被使用來(lái)分析樣品形貌(morholog;與TEM需要激發(fā)二次電子或者從樣品表面發(fā)射的電子;然后用這種電子束轟擊樣品,有一部分電子能穿透樣品;對(duì)于晶體材料,樣品會(huì)引起入射電子束的衍射,會(huì)產(chǎn)生;對(duì)于TEM分析來(lái)說(shuō)*為關(guān)鍵的一步就是制樣;集成電路封裝的可靠性在許多方面要取決于它們的機(jī)械;俄歇電子(AgerAna 失效分析常用工具介紹 透射電鏡(TE

  • 掃描電鏡(SEM)

    掃描電鏡(SEM) 服務(wù)介紹:SEM/EDX(形貌觀測(cè)、成分分析)掃描電鏡(SEM)可直接利用樣品表面材料的物質(zhì)性能進(jìn)行微觀成像。EDX是借助于分析試樣發(fā)出的元素特征X射線波長(zhǎng)和強(qiáng)度實(shí)現(xiàn)的,根據(jù)不同元素特征X射線波長(zhǎng)的不同來(lái)測(cè)定試樣所含的元素。通過(guò)對(duì)比不同元素譜線的強(qiáng)度可以測(cè)定試樣中元素的含量。通常EDX結(jié)合電子顯微鏡(SEM)使用,可以對(duì)樣品進(jìn)行微區(qū)成分分析。 服務(wù)范圍:**,航天,半導(dǎo)體,先進(jìn)

  • 失效分析實(shí)驗(yàn)室選擇

    失效分析技術(shù),失效分析實(shí)驗(yàn)室,失效機(jī)制是導(dǎo)致零件、元器件和材料失效的物理或化學(xué)過(guò)程。此過(guò)程的誘發(fā)因素有內(nèi)部的和外部的。在研究失效機(jī)制時(shí),通常先從外部誘發(fā)因素和失效表現(xiàn)形式入手,進(jìn)而再研究較隱蔽的內(nèi)在因素。在研究批量性失效規(guī)律時(shí),常用數(shù)理統(tǒng)計(jì)方法,構(gòu)成表示失效機(jī)制、失效方式或失效部位與失效頻度、失效百分比或失效經(jīng)濟(jì)損失之間關(guān)系的排列圖或帕雷托圖,以找出必須首先解決的主要失效機(jī)制、方位和部位。任一產(chǎn)品

  • 芯片測(cè)試現(xiàn)狀分析

    失效分析就是要分析損壞的產(chǎn)品從而為改進(jìn)設(shè)計(jì)或明確責(zé)任提供素材的工作。但是從行業(yè)來(lái)看,目前很多公司特別是中小型公司的失效分析做的并不好。 中國(guó)有句俗話叫:“吃一塹,長(zhǎng)一智”,《論語(yǔ)》中也有“不貳過(guò)”的說(shuō)法。其本質(zhì)就是要從失敗中吸取教訓(xùn)避免進(jìn)一步的犯錯(cuò)。 一方面,一些中小型電子產(chǎn)品生產(chǎn)商沒(méi)有良好的物料控制體系,不能對(duì)物料進(jìn)行有效的追溯。一旦出了問(wèn)題,很難查到當(dāng)年的渠道和來(lái)源。甚至不能保證物料的真?zhèn)?。?/p>

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